零点看书>都市现代>超级科技工业>第264章 认输的刘林

什么情况

现在对着图纸,依葫芦画瓢都搞不这定,郁闷了?

刘林感觉到一阵无力感,所有技术参数都是现成的,也有着详细的加工数据,又不是说加工设备不行,超级加工中心的精度要比图纸高出几倍。

现在对着数据照抄啊,大哥,这样都搞定?

到底哪里出问题了?

刘林揉了揉脑袋,靠在椅子上不停的思索着,这个致命缺陷,哪里出在哪?

要知道技术攻关小组成立已有差不多一个星期了,要人给人,要设备给设备,总公司那边不管要什么,都以最快的速度送过来!

甚至准备加入刘林组的罗小文,也被拉进了这个临时攻关小组,最后就连刘林也参与了进来,而结果呢,唉。

这段时间,刘苛他们试了一次又一次,但结果就没不如人意,要知道刘苛等人,随便拉一个出来,都不比华国拿着特殊曾贴的院士差。

现在四人又加上刘林,整个玖安科技的技术大拿都参与进去了,从开始充满希望后现在,已经充满了绝望。

高科技研究就是个无底洞,这句话,在此时被刘林等人表示的淋漓尽致。

只是短短一几天时间内,刘苛带领的临时攻关小组,材料,设备等等,已经花掉了接近2千万。

花掉就花掉了,但问题是,现在没解决问题啊!

这些钱等于打水漂了,如果按这样败下去,别说玖科技,就算国家来了,也扛不住啊。

失败之后,就是找出问题同总结经验。

但,现在问题出在哪都不知道,还解决毛问题。

这只是等离子刻蚀机其中一个技术难点,像这样同等难度的问题rdd离子激光仪,还有好十几个呢,这只是rdd离子激光仪的问题,还没算难度便大的,等离子刻蚀机和浮动光刻机呢!

刘林想了想,伸手把放在桌子上的rdd离子激光仪的料资拿了起来。

rdd离子激光仪,又叫等pdd激光平面刻印仪,是工业微电子中非常常用的加工设备。

rdd离子激光仪,是干法刻蚀中最常见的一种形式,其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体,由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体,从而形成了等离子或离子,电离气体原子通过电场加速时,会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。

某种程度来讲,等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。

进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分,工件送入被真空泵抽空的反应室,气体被导入并与等离子体进行交换,等离子体在工件表面发生反应,反应的挥发性副产物被真空泵抽走。

rdd离子激光仪实际上便是一种反应性等离子工艺,反应性激光体(rie),顺流激光体(ds),直接激光体(dp)。

感应激光体刻蚀法(edrt)是化学过程和物理过程共同作用的结果。

它的基本原理是在真空低气压下,ed射频电源产生的射频输出到环形耦合线圈,以一定比例的混合刻蚀气体经耦合辉光放电,产生高密度的激光,在下电极的rt射频作用下,这些等激光对基片表面进行轰击,基片图形区域的半导体材料的化学键被打断,与刻蚀气体生成挥发性物质,以气体形式脱离基片,从真空管路被抽走。

刘林看了看,把眉头都皱成一团,之前因为就大概的扫了两眼,没详细看,结于其难度可以说是很模糊,毕竟全部资料都是现成的,不需要设计,也不需要研发,跟着图纸制造出来就行了!

看来是自己想简单了!

刘林用手揉了揉,感觉发痛的太阳穴,吐了一口浊气,把资料往下翻!

刘苛等人看到刘林认真的在翻资料,便对着桌观上的配件再一次仔细观察,希望能找到问题出在哪。

ed设备主要包括预真空室、刻蚀腔、供气系统和真空系统四部分。

预真空室:预真空室的作用是确保刻蚀腔内维持在设定的真空度,不受外界环境(如:粉尘、水汽)的影响,将危险性气体与洁净厂房隔离开来,它由盖板、机械手、传动机构、隔离门等组成。

刻蚀腔体:刻蚀腔体是ed刻蚀设备的核心结构,它对刻蚀速率、刻蚀的垂直度以及粗糙度都有直接的影响,刻蚀腔的主要组成有:上电极、ed射频单元、rt射频单元、下电极系统、控温系统等组成。

供气系统:供气系统是向刻蚀腔体输送各种刻蚀气体,通过压力控制器(p)和质量流量控制器(f)精准的控制气体的流速和流量。

真空系统:真空系统有两套,分别用于预真空室和刻蚀腔体。

刻蚀腔体就是现在桌子上卡动不弹不了的那组合件。

现在刻蚀腔体就把刘林给卡住了,后面还有曝光镜头,d相机等十几个同等难度的组合件呢。

rdd离子激光仪工艺技术精度是01μ!

刘林看到精度的时候,太阳穴不由的又跳了跳,要知道超级加工中心精度才0001,都是同一个级别了好吧。

卧槽

刘森差点爆了个粗口,太坑爹了吧,不出问题才就怪事了,以现在的工艺基本就加工不出来好吧。

超级加工中心还是自己用作弊手段才弄出来的好吧,现在想直接加工到01μ,想多了吧,晚上睡觉多放个枕头。

梦中什么都有了,刘林看到这,基本可以肯定不是自己技术不行,而是自己所用的设备,根本没办法


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